Описание
OBLF VeOS – универсальный, гибкий и быстрый анализатор всех распространённых металлов и сплавов.
Оптический эмиссионный спектрометр OBLF на CCD- детекторах.
Применяется на любых предприятиях для контроля химического состава металлов и сплавов.
Используется для научных исследований (например, для изучения межэлементных влияний в сплавах и т. п.), разработки новых сплавов.
Преимущества:
- Одновременное определение всех элементов в пробе
- Анализ различных матриц (Fe, Al, Ni, Ti, Cu, Zn, Co, Mg, Pb, Sn)
- Возможность комбинирования разных матриц на одном приборе
- Анализ N, C, S, P (азот, углерод, сера, фосфор) в металлах
- Автоматическое профилирование и коррекция дрейфа
Решает широкий круг практических задач промышленных лабораторий металлургических предприятий, включая производителей чистых металлов.
Стационарный эмиссионный спектрометр, основанный на полупроводниковой сенсорной системе. Бескомпромиссная конструкция, сочетающая высокие аналитические показатели с невероятной гибкостью CCD/CMOS детекторов.
Обеспечивает точный анализ коротковолновых элементов, напр. сера, фосфор, азот, низкие концентрации углерода в стали, фосфор в алюминии и т.д.
Достоинства:
- Всеобъемлющая мультиматричная система без ограничений в выборе элементов для анализа
- Выбор любой спектральной линии пользователем в диапазоне от 130 до 780 нм.
- Одновременное определение всех элементов в пробе
- Анализ различных основ (Fe, Al, Ni, Ti, Cu, Zn, Co, Mg, Pb, Sn)
- Возможность комбинирования разных основ на одном приборе
- Анализ N, C, S, P в металлах
- Удовлетворяет всем аналитическим задачам
- Легко добавляемые аналитические линии
- Новейшая, специально разработанная технология детекторов
- Точное определение низких пределов содержания N и C (технология ULC)
- Превосходные эксплуатационные качества благодаря пределу обнаружения, точности и стабильности
- Автоматическое профилирование и коррекция дрейфа
- Надёжная конструкция для работы в жестких производственных условиях
Детекторы
Конструкция светочувствительных детекторов CMOS специально приспособлена для требований эмиссионной спектрометрии. Они отличаются большой светочувствительной поверхностью, которая в 100 раз больше, чем в сопоставимых системах.
- В VeOS применяются высококачественные эксклюзивные твердотельные детекторы, разработанные специально для эмиссионной спектроскопии
- Усовершенствована чувствительность сенсоров:
- большая площадь пиксела: узкие и высокие пикселы (для повышения разрешения и чувствительности)
- отсутствие органических покрытий для повышения чувствительности в УФ- диапазоне (как результат- долговременная стабильность)
- Истинная технология компенсации шума CDS (двойное сэмплирование)
- Улучшена чувствительность в УФ-области без органического покрытия
- Избирательная чувствительность для каждого сенсора
- 16 битное АЦП преобразование для измерения в большом динамическом диапазоне
- Быстрое считывание за 2 мс
- Отсутствие блюмингового эффекта (эффекта «распускания») благодаря специальной конструкции транзистора
- Охлаждение детекторов для уменьшения темнового шума и улучшения стабильности сигнала
- Технология объединения сигналов с пикселов для повышения аналогового сигнала (только для CMOS)
Необслуживаемый цифровой генератор GDS III
- Обеспечивает высочайшую степень воспроизводимости по всем параметрам возбуждения
- Улучшает точность и пределы обнаружения концентраций элементов
- Снижает межэлементные влияния и влияние фона
- Параметры возбуждения оптимизированы
- Программируемая частота разряда 1 Гц- 1 кГц
Искровой штатив
- Конструкция штатива позволяет получать оптимальный световой поток для элементов, возбужденных в различных областях плазмы, что крайне важно для определения следовых концентраций
- Оптимальный участок плазмы искры
- Запатентованная импульсная продувка аргоном
- Термостабилизация штатива
- Простой доступ для обслуживания
- Считывающая и обрабатывающая электроника полностью помещены в термостабилизированную вакуумную камеру.
Программное обеспечение
Базируется на концепции OBLF, сочетающей использование микропроцессоров для контроля работы отдельных устройств спектрометра и регистрации аналитических сигналов, с центральным управляющим ПК и аналитическим программным обеспечением на базе платформы Windows™. Управляется с помощью системы меню, оптимизировано для быстрой работы. Экранный интерфейс оператора на русском языке.
Возможности
- Обработка данных спектра:
- различные режимы сглаживания формы кривой спектральных линий (FFT, spline, Savitzky-Golay)
- «вычитание» фона для каждой линии
- постоянная проверка профиля линии
- использование нескольких линий сравнения
- «Анализатор спектра» (позволяет увидеть на экране весь спектр, параметры канала)
- Технологии компенсации фона
- Расчет интенсивностей канала (n-Pixel-Integral, Gauss area, Peakheight)
- Виртуальная выходная щель шириной 3 - 100 pm
- Линейная интерполяция для «улучшения» спектрального разрешения
- Контроль профиля
- Контроль темнового тока
- Автоматическое профилирование с помощью ПО
Технические характеристики
Характеристика
|
Значение
|
Оптическая схема Пашена-Рунге
|
500 мм
|
Плоская решётка
|
160 мм
|
Разрешение дифракционной решётки
|
2600 линий/мм
|
Обратная дисперсия для 1-го порядка
|
0,78 и ~4 нм/мм
|
Диапазон длин волн
|
130-680/780 нм
|
Частота искрового разряда
|
1 - 1000 Гц
|
Чистота аргона
|
99,998 %
|
Расход аргона на один прожиг в Fe-матрице
|
макс. 2,4 л
|
Расход аргона во время ожидания
|
капиллярный
|
Габариты прибора, Д х Ш х В
|
1150 х 740 х 1340 мм
|
Вес нетто
|
300 кг
|