Описание

Установка NB5 представляет собой систему с векторным сканированием прямым лучом, которая использует метод последовательной шаговой мультипликации. Данная система была специально разработана для комбинированной литографии.

Современная и инновационная конструкция системы позволяет достичь высокой производительности и надёжности. Установка nB5 идеально подходит для разработки и производства нано-устройств. 

Установка nB5 выполняет обратную литографию для формирования металлизированного слоя  в 20 нм, при определенных параметрах процесса может быть достигнуто 10нм. Повторяемый результат в нанесении  металлизированного слоя  <20нм был продемонстрирован в производстве полупроводниковых пластин. 

Уникальная и компактная вакуумная система установки обеспечивает  бесперебойную работу и надежную работу. Надежное и простое в использовании программное обеспечение и расширяемый графический интерфейс делают установку удобной для пользователя.

Отличительные особенности:

• Низкий кулоновский эффект электронной оптики
• Уникальная автоматическая система загрузки
• Система отслеживания вибрации
• Высокая устойчивость к полям рассеиванния
• Инновационная конструкция электронной пушки
• Дружелюбный интерфейс ПО
• Высокая пропускная способность
• Малая занимаемая площадь

Области применения:

• Микроэлектроника
• МЭМС
• Микрофлюидика
• Оптоэлектроника

Технические характеристики